我国在光刻胶领域取得新突破

2025年10月25日，北京大学彭海琳教授团队联合科研团队，在光刻胶微观结构研究中取得重要进展。研究人员利用冷冻电子断层扫描技术，首次在液相环境中原位解析了光刻胶分子的三维结构、界面分布与缠结行为，揭示了影响光刻精度的关键因素。基于该发现，团队指导开发出可显著降低光刻缺陷的产业化解决方案，有望提升国产光刻工艺水平。相关成果已发表于《自然·通讯》。

免责声明：本文内容由开放的智能模型自动生成，仅供参考。